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| ＫＶＣ－13００ | |
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| 本真空蒸着装置は河合光学株式会社の蓄積された真空蒸着技術と経験により幅広い用途の多層膜形成を目的として完成した蒸着装置です。膜厚計の調整、蒸着パラメーターの変更の容易さ、定期的な内部のクリーニングや基板交換の容易さなど、作業性に優れた設計になっております。光学部品、電子部品など多目的な薄膜形成膜を可能にする水晶式モニターなど豊富なオプションを組み合わせた各用途に最適なシステムで蒸着が可能です。 成膜操作については、全自動蒸着システムが標準装備されており、排気から完了まで一貫した自動制御が可能です。また,お客様のご要望によりましては、設置後の成膜条件出し,ドーム間の分布取り,操作トレーニングなどもご指導いたします。 |
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